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曝光機用于半導體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學(xué),微機電系統,凹凸或覆晶設備和其他要求精細印 2022-08-10

曝光機即電子束曝光機是集電子光學(xué)、電氣、機勞力士手表http://m.wbiao.cn/rolex-watches/械、真空、計算機技術(shù)等于一體的復雜的半導體加工設備。

曝光機/光刻機

曝光機是20 世紀 60 年代初從掃描電子顯微鏡基礎上發(fā)展起來(lái),70 年代以后廣泛應用于半導體集成電路制造業(yè)。

基本工作原理

在計算機的控制下,利用聚焦歐米茄手表http://m.wbiao.cn/omega-watches/電子束對有機聚合物(通常稱(chēng)為電子抗蝕劑或光刻膠)進(jìn)行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形。

應用范圍

用于半導體制造,光電電子,平板,射頻微波,衍射光學(xué),微機電系統,凹凸或覆晶設備和其他要求精細印制和精度對準的技術(shù)要求。

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